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·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 应用于 AlTiN 涂层研究	2024-01-05
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射制备堵片传感器薄膜	2024-01-05
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 溅射制备类金刚石 Ta-C 涂层	2024-01-05
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助磁控溅射沉积 Cu-W 膜	2024-01-05
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 用于铝表面溅射沉积 ZrN 薄膜	2024-01-05
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 用于溅射沉积硅片金属薄膜	2024-01-05
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 成功用于复合磁控溅射沉积装置	2024-01-05
·KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 溅射沉积红外器件介质膜	2024-01-05
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射沉积 NSN70 隔热膜	2024-01-05
·KRI 离子源应用于舞台灯光滤光片镀膜	2024-01-05
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积制备碳薄膜	2023-12-15
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射沉积 BCx 薄膜	2023-12-15
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 镀制气体传感器 WO3 薄膜	2023-12-15
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积纳米纯 Ti 薄膜	2023-12-15
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积 MoN 薄膜	2023-12-15
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 成功用于多靶磁控溅射镀膜机	2023-12-15
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积钛金属薄膜	2023-12-15
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 镀制红外器件 ZnS 薄膜	2023-12-15
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射沉积半导体 IGZO 薄膜	2023-12-15
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积 ZnNi 合金薄膜	2023-12-15
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 制备 IFBA 芯块 ZrB2 涂层	2023-11-28
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 制备 NGZO 薄膜	2023-11-28
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 制备富硅SiNx薄膜	2023-11-28
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射多层沉积 Nb3Sn 超导薄膜	2023-11-28
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 溅射沉积 NSN70 隔热膜	2023-11-28
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助磁控溅射 WS2 薄膜	2023-11-28
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 制备 YIG 薄膜	2023-11-28
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射沉积铝锰合金薄膜	2023-11-28
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 辅助溅射沉积 MnZn 铁氧体薄膜	2023-11-28
·KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助磁控溅射制 TiSiN-Ag 薄膜	2023-11-28

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